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SSM6H19NU

产品描述Composite Devices Silicon N-Channel MOS/Epitaxial Schottky Barrier
文件大小258KB,共11页
制造商Toshiba(东芝)
官网地址http://toshiba-semicon-storage.com/
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SSM6H19NU概述

Composite Devices Silicon N-Channel MOS/Epitaxial Schottky Barrier

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SSM6H19NU
Composite Devices
Silicon N-Channel MOS/Epitaxial Schottky Barrier
SSM6H19NU
1. Applications
DC-DC Converters
2. Features
(1)
N-channel MOSFET and a schottky barrier diode in one package.
2.1. MOSFET Features
(1)
(2)
Low drain-source on-resistance
: R
DS(ON)
= 160 mΩ (typ.) (@V
GS
= 3.6 V)
1.8-V gate drive voltage.
2.2. Diode Features
(1)
Low forward voltage: V
F
= 0.51 V (typ.) (@I
F
= 500 mA)
3. Packaging and Internal Circuit
1.Anode
2.NC
3.Drain
4.Source
5.Gate
6.Cathode
UDFN6
4. Absolute Maximum Ratings (Note)
4.1. Absolute Maximum Ratings of the MOSFET
(Unless otherwise specified, T
a
= 25
)
Characteristics
Drain-source voltage
Gate-source voltage
Drain current
Drain current (pulsed)
Channel temperature
(Note 1)
(Note 1)
Symbol
V
DSS
V
GSS
I
D
I
DP
T
ch
Rating
40
±12
2.0
4.0
150
A
Unit
V
Note 1: Ensure that the channel temperature does not exceed 150
.
Start of commercial production
1
2013-12
2014-03-12
Rev.2.0
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