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481Q-2.75"X9"

产品描述POLISH FILM SILICON CRBD 9X2.75"
产品类别工具与设备   
文件大小48KB,共2页
制造商3M
官网地址http://3M.com/esd
标准
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481Q-2.75"X9"概述

POLISH FILM SILICON CRBD 9X2.75"

481Q-2.75"X9"规格参数

参数名称属性值
类型抛光薄膜
规格碳化硅
大小/尺寸9.00" 长 x 2.75" 宽(228.6mm x 69.9mm)
配套使用产品/相关产品光纤连接器

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Technical Data
February 2013
3M
Wetordry
Polishing Paper
281Q
286Q
481Q
486Q
Product Description
3M™ Wetordry™ Polishing Papers are comprised of micron graded aluminum oxide and silicon carbide particles that are
slurry coated onto a non-woven synthetic backing. Wetordry Polishing Papers provide excellent flexibility for finishing
and polishing high contoured surfaces. The pattern coating also lends itself well to polishing soft materials like plastic and
soft metal alloys – aluminum, brass, copper etc. Available plain, or with PSA (Pressure Sensitive Adhesive) backing.
Applications
• CD/DVD repair, plastic and metal finishing.
• Wafer edge cleaning.
Key Features
– Produces excellent surface finish.
– Reduces overall process time.
– Produces high yields.
– For use in a variety of applications on a variety of machines.
– Non-slurry processing.
Product I.D. Mineral Size Grading Chart
Product ID
(plain back)
Product ID
(PSA back)
Mineral
Aluminum Oxide
Aluminum Oxide
Aluminum Oxide
Aluminum Oxide
Silicon Carbide
Silicon Carbide
Micron Grade
(nominal)
Color
Light Green
Teal
Pink
Blue
Gray
Green
281Q
281Q
281Q
281Q
481Q
481Q
N/A
286Q
286Q
286Q
486Q
486Q
1
2
3
9
15
30
Converted Forms
• Sheets, Discs and Rolls.
• Maximum width 26".
Backing
• Synthetic non-woven substrate.
• Nominal thickness: 9.5 mil.
3
not fit into available memory问题
本帖最后由 jetlin1992 于 2014-7-27 12:07 编辑 看过前面有类似问题的通过减少全局变量解决问题。但是我的程序没有用到全局变量,求解 161330161331 ...
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