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最近几个月,AI芯片一度成为手机圈热词。各大手机厂商也纷纷蜂拥而至,奏响了属于AI芯片的命运交响曲。而业内也一致认为,AI芯片将成为众多上游厂商的新发力点。不过,作为传统移动芯片“老大哥”的高通却在新趋势面前表现乏力。不仅后发而至,且其旗舰级芯片骁龙845因缺失极为重要的独立NPU单元而饱受行业诟病。或许,一直深陷舆论漩涡的高通,颓势终于显现在了最重要的芯片产品上。笔者认为,错失了提...[详细]
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随着集成电路产业发展进入“后摩尔时代”,集成电路芯片性能提升的难度和成本越来越高,人们迫切需要寻找新的技术方案。近日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所科研团队在钽酸锂异质集成晶圆及高性能光子芯片领域取得突破性进展,成功开发出可批量制造的新型“光学硅”芯片。相关研究成果8日在线发表于《自然》杂志。当前,以硅光技术和薄膜铌酸锂光子技术为代表的集成光电技术是应对集成电路芯片性能提升瓶颈问题的...[详细]
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美国商务部日前宣布,今后7年内,将禁止该国企业向中国电信设备制造商中兴通讯出售任何电子技术或通讯元件。这一事件在舆论场上引发深入讨论,出口禁运触碰到了中国通信产业缺乏核心技术的痛点。“缺芯少魂”的问题,再次严峻地摆在人们面前。 禁售7年对应的正是2025年,美国如此行事,真正的用意昭然若揭。如《纽约时报》所说,美国的真正考量是要遏制中国制造业升级,拖慢“中国制造2025”这一强国战略。...[详细]
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碳纳米管的发现者饭岛澄男(Prof.SumioIijima)来华参加2017年纳米碳材料科学前沿及产业化会议。饭岛澄男于1991年在日本NEC就职时首次发现碳纳米管存在,随着对碳纳米管研究加深,应用领域越来越广泛。此次访华参加研讨会主要是探讨发现新型的纳米碳材料和实现碳材料从基础研究向产业化转移的突破机遇。碳纳米管作为一维纳米碳材料的代表,碳纳米管导电性好,机械强度优异,在能源存储、复...[详细]
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硅基频率控制产品的全球创新领导厂商和制造厂商ECSInc.International宣布任命陈婉婷为ECSAsiaPacificLimited运营总监,驻于中国香港办事处。ECSAsiaPacificLimited首席执行官HerbChaney表示:“我们非常高兴陈婉婷加入我们在香港的团队,她拥有丰富的客户服务团队、物流和供应商管理团队的日常运营和管理经验,这将是我...[详细]
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高通(Qualcomm)执行长莫兰科夫(SteveMollenkopf)今天表示,半导体未来10年最大挑战,是让产业中每个人都能善用科技,朝向智慧联网发展。台积电下午在君悦酒店举行论坛,为30周年庆祝活动揭开序幕,论坛以「半导体的未来10年」为题,由董事长张忠谋亲自主持。台积电论坛邀请莫兰科夫、辉达(NVIDIA)执行长黄仁勋、亚德诺(ADI)执行长罗希(VincentRoche...[详细]
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2018年4月12日-13日,“2018中国半导体市场年会暨IC中国峰会”在南京举行。在本届年会上,中国半导体行业协会揭晓了“2017中国半导体制造、设计、封装测试十大企业”。据中国半导体行业协会的数据显示,2017年国内集成电路产业总体规模达到5411.3亿元,同比增长24.8%。其中,集成电路设计业同比增长26.1%,规模达到2073.5亿元;集成电路制造业同...[详细]
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据海外媒体报道,SoftBank社长孙正义在2016年6月突然宣布留任,指定接班人NikeshArora离职,7月又宣布购并ARM(ARM),引发市场轩然大波;日经商业(NikkeiBusiness)为此特别访问孙正义。孙正义表示,他相信所谓的科技奇点(TechnologicalSingularity)必将出现,大概20~30年后人工智能(AI)会成为超过人类的超级智能,而且当人...[详细]
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TowerSemiconductor正在使用相变材料来制造低功耗非易失性射频开关,这样可以使射频开关无需消耗电力来保持开关状态,以适合电池供电的物联网应用。该公司称:“这种开关技术使得RonxCoff10fs,可以使开关频率支持5G的所有频段,并进一步扩展到毫米波。”该工艺已经可用于批量生产,已集成到SiGeBiCMOS和功率CMOS等产品上,并计划于2021年进行多项目晶...[详细]
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40年ALD积淀助力超越摩尔,思锐智能完成第一阶段发展布局沉积、光刻、刻蚀以及等离子注入是半导体和超越摩尔领域制造工艺的4大关键技术。在新晶圆产线的投资建设中,约80%的投资用于购买设备,薄膜沉积设备更是占据其中约25%的比重。业界主流的薄膜沉积工艺主要有原子层沉积(ALD)、物理式真空镀膜(PVD)和化学式真空镀膜(CVD)等。其中ALD属于CVD的一种,是当下最先进的薄膜沉积技术。...[详细]
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Unigraf作为DP(DisplayPort)测试解决方案厂商,不断为新的影音传输标准,提供对应的测试工具,目前已成功研发出Type-C功能检测工具--UCD-340。USBType-C已经渐渐成为消费性电子产品主流接口,其应用包含数据/影像传输、电力传输等等,硬件虽然简化成单一的Type-C接口,但当中却包含许多新支持的功能,这也意味着这些应用的验证难度相对提升。从物理层面来看,U...[详细]
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东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)宣布,推出“TLP5231”,这是一款面向中大电流绝缘栅双极型晶体管(IGBT)和MOSFET的预驱动光耦,适用于工业逆变器和光伏(PV)的功率调节系统。这款全新的预驱动光耦内置多种功能,其中包括通过监控集电极电压实现过流检测。产品于今日起开始出货。TLP5231产品示意图新型预驱动光耦使用外部P沟道和N沟道互补的MOSFET作为缓冲...[详细]
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电子网消息,NI(美国国家仪器公司,NationalInstruments,简称NI)作为致力于为工程师和科学家提供解决方案来应对全球最严峻的工程挑战的供应商,今日宣布推出PXIe-8301远程控制模块,这是业界首款使用Thunderbolt™3技术,通过笔记本电脑控制PXI系统的解决方案。 PXIe-8301可通过2个Thunderbolt3端口,提供PCIExpressGe...[详细]
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中国半导体行业协会集成电路设计分会理事长魏少军2013年,中国集成电路设计业一改前几年发展乏力的局面,取得了长足进步,在产业规模、发展质量、竞争能力等方面取得了近几年少有的好成绩,但全行业的经济效益有待提高,问题和挑战依然存在。百亿元规模企业初现2013年,全行业销售额有望达到874.48亿元(142.19亿美元),比2012年的680.45亿元增长28.51%。2013年,中国集成电...[详细]
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10月22日消息,韩媒TheElec当地时间昨日报道称,在三星电子负责半导体业务的设备解决方案(DS)部面临先进制程竞争力不强、HBM内存向大客户交付迟缓两大危机的背景下,大批DS部门员工纷纷考虑跳槽至竞争对手SK海力士或是韩国政府研究机构。报道称,SK海力士近日招聘三名经验丰富的蚀刻工艺工程师,结果收到了三星电子内部大多数符合这一条件的员工的申请,总数达近200名...[详细]