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3VD499650YL

产品描述VD-MOS管
产品类别分立半导体   
文件大小74KB,共1页
制造商士兰微(Silan)
官网地址http://www.silanic.com.cn/
杭州士兰微电子股份有限公司(上交所股票代码:士兰微,600460)坐落于杭州高新技术产业开发区,是专业从事集成电路芯片设计以及半导体微电子相关产品生产的高新技术企业,公司目前的主要产品是集成电路和半导体产品。
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3VD499650YL概述

VD-MOS管

功能特点

高压MOSFET芯片

参数指标

650V

应用领域

AC-DC开关电源、DC-DC电源转换器、高压H桥PMW马达驱动

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3VD499650YL
3VD499650YL HIGH VOLTAGE MOSFET CHIPS
DESCRIPTION
3VD499650YL is a High voltage N-Channel
enhancement mode power MOS-FET chip fabricated in
advanced silicon epitaxial planar technology;
Advanced termination scheme to provide enhanced
voltage-blocking capability;
Avalanche Energy Specified;
Source-to-Drain Diode Recovery Time Comparable to a
Discrete Fast Recovery Diode;
The chips may packaged in TO-220 type and the typical
equivalent product is 12N65;
The packaged product is widely used in AC-DC power
suppliers, DC-DC converters and H-bridge PWM motor
drivers;
Die size: 5.66mm*4.4mm;
Chip Thickness: 300±20μm;
Top metal: Al, Backside Metal: Ag.
CHIP TOPOGRAPHY
ABSOLUTE MAXIMUM RATINGS
(T
amb
=25°C)
Parameter
Drain-Source Voltage
Gate-Source Voltage
Drain Current
Power Dissipation (TO-220 Package)
Operation Junction Temperature
Storage Temperature
Symbol
V
DS
V
GS
I
D
P
D
T
J
Tstg
Ratings
650
±30
12
180
150
-55½+150
Unit
V
V
A
W
°C
°C
ELECTRICAL CHARACTERISTICS
(T
amb
=25°C)
Parameter
Drain -Source Breakdown Voltage
Gate Threshold Voltage
Drain-Source Leakage Current
Static Drain- Source On State
Resistance
Gate-Source Leakage Current
Source-Drain Diode Forward on
Voltage
Symbol
B
VDSS
V
TH
I
DSS
R
DS(on)
I
GSS
V
FSD
Test conditions
V
GS
=0V, I
D
=250µA
V
GS
= V
DS
, I
D
=250µA
V
DS
=650V, V
GS
=0V
V
GS
=10V, I
D
=6.0A
V
GS
=±30V, V
DS
=0V
I
S
=12A, V
GS
=0V
Min.
650
2.0
-
-
-
-
Typ.
-
-
-
-
-
-
Max.
-
4.0
1.0
0.8
±100
1.4
Unit
V
V
µA
Ω
nA
V
HANGZHOU SILAN MICROELECTRONICS CO.,LTD
Http: www.silan.com.cn
REV:1.0
2008.10.15
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